Titel: Reaktives-Ionenätzen-System Beschreibung: Für die Prozessierung von Halbleiterbauelementen im Rahmen der Forschung und Entwicklung wird ein erprobtes System für das Reaktive Ionen Ätzen (RIE) benötigt. Das RIE-System muss das kontrollierte und reproduzierbare Ätzen der III-V-Verbindungshalbleiter GaAs und InP sowie das Ätzen von dielektrischen Materialien wie zum Beispiel SiO2 und Si3N4 ermöglichen. Weitergehende Informationen sind der beigefügten Leistungsbeschreibung (Vertragsunterlagen) zu entnehmen. 5.1. Los: LOT-0001 Titel: Reaktives-Ionenätzen-System Beschreibung: Für die Prozessierung von Halbleiterbauelementen im Rahmen der Forschung und Entwicklung wird ein erprobtes System für das Reaktive Ionen Ätzen (RIE) benötigt. Das RIE-System muss das kontrollierte und reproduzierbare Ätzen der III-V-Verbindungshalbleiter GaAs und InP sowie das Ätzen von dielektrischen Materialien wie zum Beispiel SiO2 und Si3N4 ermöglichen. Weitergehende Informationen sind der beigefügten Leistungsbeschreibung (Vertragsunterlagen) zu entnehmen.